Entwicklung eines PVD-Metallisierungskonzeptes fur industrielle ruckseitenpassivierte und -kontaktierte Silicium-Solarzellen.

This title is printed to order. This book may have been self-published. If so, we cannot guarantee the quality of the content. In the main most books will have gone through the editing process however some may not. We therefore suggest that you be aware of this before ordering this book. If in doubt check either the author or publisher’s details as we are unable to accept any returns unless they are faulty. Please contact us if you have any questions.

Fur die ruckseitige Metallisierung von hocheffizienten Silicium-Solarzellen bietet eine aufgedampfte Al-Metallisierung hervorragende optische und elektrische Eigenschaften und daher fur eine Vielzahl von hoch- und hoechsteffizienten Zellkonzepten Vorteile gegenuber einer industriell etablierten Siebdruckmetallisierung. Obwohl Zellmetallisierungsverfahren mit physikalischer Gasphasenabscheidung (PVD) in der Forschung seit langem etabliert sind, besteht noch entscheidender Entwicklungsbedarf hinsichtlich der Anspruche einer industriellen Anwendung. Diese scheiterte bislang insbesondere daran, dass eine PVD-Metallisierung aus Aluminium nicht mit den etablierten Zellverschaltungsverfahren, wie einem konventionellen Loetprozess, kompatibel ist. In dieser Arbeit werden insbesondere Herausforderungen hinsichtlich einer ausreichenden Haftung der aufgedampften Aluminium-Schicht auf gangigen Passivierschichten, hinsichtlich unerwunschten Aluminium-Diffusionsprozessen und bezuglich der Langzeitstabilitat, Strukturierbarkeit und Kosteneffizienz adressiert und geloest. Als Resultat wird eine loetbare und industriell anwendbare PVD-Ruckseitenmetallisierung fur Silicium-Solarzellen prasentiert.