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In den letzten Jahren erschienen bereits mehrere Bucher zum Thema Ionenimplanta- tion, die sich fast ausschliesslich an auf dem Gebiet der Ionenimplantation tatige Wissenschaftler wenden und deshalb der Theorie einen sehr breiten Raum einraumen. Im Gegensatz hierzu wendet sich das vorliegende Werk weniger an den Implanta- tionsfachmann, sondern mehr an Forscher und Entwickler in Industrie, F or- schungslaboratorien und Hochschulen, die an der Ionenimplantation als neuem Hilfsmittel zur Veranderung von Materialeigenschaften interessiert sind und wissen wollen, ob die Ionenimplantation fur ihr Problem anwendbar ist. Bei einer solchen Ausrichtung muss deshalb nach unserer Meinung neben einem kurzen Abriss der theoretischen Grundlagen vor allem die Behandlung von Problemen bei der Anwendung der Implantation im Vordergrund der Darstellung stehen, wovon hier zum Beispiel genannt seien die elektrische Aktivierung implantierter Ionen, Diffusionseffekte sowie die Diskussion der hauptsachlich verwendeten Mess- methoden zur Untersuchung implantierter Schichten, die apparativen Anforderungen an Beschleunigungssysteme und naturlich zahlreiche Beispiele zur Anwendung der Ionenimplantation. Die Schwerpunkte des Buches liegen bei der Dotierung von Halbleitern durch Ionenimplantation, da dies zur Zeit und wahrscheinlich noch sehr lange ihre Hauptanwendung sein wird; dennoch wird von Fall zu Fall auf die weiteren Moeglich- keiten der Implantation eingegangen.
